Alveo3D Filter UM55 for Ultimaker-skrivere

Alveo3D UM55-filteret er en innovativ løsning for ditt Ultimaker FDM-skriversystem, og gir effektiv luftfiltrering gjennom en spesialisert HEPA 13-filter i kombinasjon med aktivt kull.

• HEPA 13-filteret fjerner over 99,95 % av partikler ned til 300 nm – inkludert virus, bakterier og allergener.

• 1–3 mm store aktivkullgranulater absorberer flyktige organiske forbindelser (VOC) og ubehagelige lukter som kan oppstå under utskrift. Med en levetid på opptil 900 timer sikrer kullandelen langvarig effektivitet.

Ren luft + optimalisert luftsirkulasjon

UM55-filteret er utviklet for å filtrere skadelige partikler og lukter, samtidig som det forbedrer luftsirkulasjonen i byggekammeret. Dette bidrar til jevn temperatur og reduserer temperatursvingninger som kan påvirke utskriftskvaliteten.

Perfekt kompatibilitet med Ultimaker Air Manager

UM55-filteret kan enkelt integreres i Air Manager-systemene for Ultimaker S5, S7 og S8 – uten behov for kompliserte modifikasjoner. Det kan installeres eller skiftes ut på under ett minutt, noe som gjør vedlikeholdet enkelt og brukervennlig. Det beste med UM55-filteret: Den aktive kullkomponenten forbedrer absorpsjonen av VOC og lukt – noe som ikke finnes i originalfilteret.

Oversikt over egenskaper:

• Nylon-nett: Et slitesterkt nylonlag beskytter HEPA-filteret og opprettholder filtreringseffekten.
• HEPA 13: Foldet HEPA-filter i klasse 13, impregnert med bomull, gir effektiv beskyttelse mot utslipp av nanopartikler og er sertifisert i henhold til EN1822.
• Papp-ramme: Reduserer plastavfall og bidrar til lav vekt.
• Aktivt kull: 150 g spesialtilpasset blanding for behandling av VOC gir et trygt arbeidsmiljø.
• 5 mm EPDM-skum: Sikrer optimal tetning rundt hele filteret og i front.

► Det anbefales å bytte filteret etter 3 måneder ved hyppig bruk, eller etter 6 måneder ved sporadisk bruk (også ved lagring).

Tips: Effektivitetstesten for UM55-filteret (se bilde) viser ytelsen ved bruk med ASA-filament under realistiske forhold. Resultat: gjennomsnittlig filtreringseffektivitet på 96,36 % – selv for ultrafine partikler mellom 10 og 200 nm.

Tekniske spesifikasjoner: